Q39.webp
red_rose

Q39.webp

  • Media owner red_rose
  • Ngày thêm
Question: 39
(Choose 1 answer)
In the fabrication of a MOSFET, which of the following processes is used to create the gate oxide layer?
A. Ion implantation
B. Thermal oxidation
C. Chemical vapor deposition (CVD)
D. Etching

Thông tin

Category
SDI101m
Thêm bởi
red_rose
Ngày thêm
Lượt xem
385
Lượt bình luận
2
Rating
0.00 star(s) 0 đánh giá

Share this media

Back
Bên trên Bottom